Cháu đến đọc chữ còn không xong đi tranh luận?. Ngay từ comment đầu tiên bần tăng đã nói TQ không có khả năng sản xuất Sunfuric đạt đến mức tinh khiết để sử dụng rửa các tấm wafer. Đây là comment đầu tiên trong bài không có chỉnh sửa:
Bôi đậm, phóng to cho cháu nhìn cho rõ. Phát hiện thêm cháu mắc bệnh nhược thị mắt kém nữa. Thương cháu

Cháu có hiểu rõ giữa sản lượng sản xuất và khả năng sản xuất đạt đến tinh khiết đủ để dùng rửa các tấm wafer không?.
Giải thích một lần và duy nhất cho cháu hiểu tại sao phải dùng Sunfuric tinh khiết để rửa các tấm wafer mà không phải là loại bình thường:
_ Wafer đòi hỏi mức độ sạch cực kỳ cao (cleanroom standards).
_ Axit H₂SO₄ không tinh khiết có thể chứa kim loại nặng, ion lạ, hoặc hợp chất hữu cơ → các tạp chất này sẽ nhiễm vào bề mặt wafer, làm hỏng cấu trúc bán dẫn hoặc gây lỗi khi khắc/lắng đọng.
_ Nếu không tinh khiết, các phản ứng phụ có thể xảy ra → sinh ra khí độc, hoặc gây hư hỏng bề mặt wafer.
_ "Electronic Grade" hoặc "Semiconductor Grade" H₂SO₄ là hai phân hạng thông dụng của Sunfuric trong ngành bán dẫn. Không đạt một trong hai phân hạng này thì không có bất kì một công ty sản xuất chip nào sử dụng vì nó chắc chắn gây hỏng tấm wafer.
_ Độ tinh khiết rất cao (thường >99.999%) và kiểm soát ion kim loại <1 ppb (google cho kỹ cái này. Để biết nó tinh khiết đến mức độ nào).
Kết luận: Cháu còn chả biết thuật ngữ Electronic Grade và Semiconductor Grade nữa mà ngồi đó nói nhãm. Bần tăng thấy cháu tội nghiệp và đáng thương hơn là đáng trách. Vì cháu vừa dốt nát, vừa cố chấp, vừa vô học không kiềm chế được cảm xúc, lại mắt kém. Thì ngoài đời cháu sống không hạnh phúc, lại không thành công trong sự nghiệp, trình độ và khả năng tư duy lại cực kì hạn chế. Tội nghiệp cháu, thương cháu